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苏州半导体无尘车间建设新标杆:从防微振设计到AMC控制的全维度技术升级

分类:公司新闻 发布时间:2025-08-26 25次浏览

2025年半导体行业进入3nm及以下制程时代,无尘车间建设面临“纳米级洁净+皮米级振动控制”的双重挑战。合洁科技最新发布的12英寸芯片厂房解决方案,通过六大技术创新重新定义行业标准:


洁净度控制:采用ULPA过滤器(过滤效率99.999%@0.1μm)与垂直单向流设计,配合AI动态风量调节系统,实现ISO 1级洁净度(每立方米≥0.1μm微粒≤10个),能耗较传统方案降低20%;

防微振技术:高架地板采用弹簧阻尼减震系统,将振动幅度控制在<0.1μm,满足EUV光刻机对环境稳定性的严苛要求;

AMC(气态分子污染物)治理:部署化学过滤器阵列,针对酸性气体(如HF)、有机挥发物(VOCs)的去除效率达99.9%,避免芯片制造过程中的化学腐蚀;

人员管理:引入15步智能更衣流程与黑灯工厂模式,通过AGV自动物流减少人为干预,将人员污染风险降低60%。


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